EEUU se ha rendido ante la evidencia: no se puede permitir penalizar con aranceles a ASML
Publicado el 02/08/2025 por Diario Tecnología Artículo original
El acuerdo comercial que firmaron Donald Trump, el presidente de EEUU, y Ursula von der Leyen, la presidenta de la Comisión Europea, a finales de la semana pasada establece que la mayor parte de los productos importados por EEUU y fabricados por Europa tendrá un arancel del 15%. Sin embargo, los productos estratégicos no estarán sometidos a ningún arancel. Y los equipos de fotolitografía que diseña y fabrica la compañía neerlandesa ASML tienen un rol estratégico tanto para Europa como para EEUU.
"Hemos acordado unos aranceles de cero por cero para una serie de productos estratégicos", aclara el comunicado de la Comisión Europea. "En este acuerdo están incluidas todas las aeronaves y sus componentes, así como algunos productos químicos, componentes genéricos, equipos de semiconductores, productos agrícolas, recursos naturales y materias primas críticas. Y seguiremos trabajando para añadir más productos a esta lista".
EEUU es un mercado muy importante para ASML, por lo que esta exención de los aranceles le beneficia. Intel, GlobalFoundries, Micron Technology, Texas Instruments, Samsung y TSMC son algunos de sus clientes en el país liderado por Donald Trump. Estas dos últimas compañías no son estadounidenses, pero tienen fábricas de chips en EEUU. De hecho, la exención de los aranceles es tan importante para estas empresas como para ASML debido a que esta última es la única compañía que produce máquinas de litografía de ultravioleta extremo (UVE). Y las necesitan en algunas de sus plantas para producir chips de vanguardia.
Para ASML su monopolio efectivo lo es todo
ASML no tiene competencia desde que colocó en el mercado su primer equipo de fotolitografía UVE. Las empresas japonesas Canon y Nikon, sus competidoras naturales, también intentaron desarrollar esta máquina, pero fracasaron en el intento. Los recursos técnicos y económicos que eran necesarios para hacerla posible eran tan cuantiosos que decidieron retirarse de la pugna con ASML. Vía libre. Hoy las máquinas de fabricación de semiconductores más avanzadas que podemos encontrar en las plantas de TSMC, Intel, Samsung o SK Hynix las produce ASML.
Actualmente su reinado parece imperturbable. Canon ha desarrollado un equipo de litografía de nanoimpresión que persigue competir de tú a tú con las máquinas UVE de ASML, pero por el momento no está claro que esta tecnología vaya a ser capaz de rivalizar con el equipo más avanzado de la compañía neerlandesa: la máquina de fotolitografía (UVE) de alta apertura. Presumiblemente gracias a ella podrán producir chips de menos de 1 nm antes de que expire esta década.
Las máquinas de fabricación de chips más avanzadas que podemos encontrar en las plantas de TSMC, Intel, Samsung o SK Hynix las produce ASML
Los equipos de fotolitografía UVE son extraordinariamente sofisticados. Las GPU para inteligencia artificial más avanzadas de NVIDIA; los SoC más potentes que tiene Apple o las CPU de mayor rendimiento de AMD son posibles gracias a ellos. Eso sí, ninguna de estas empresas fabrica sus propios chips. Los diseñan, pero los produce la compañía taiwanesa TSMC utilizando las máquinas de litografía UVE de ASML. No obstante, esta corporación europea no ha desarrollado en solitario todas las innovaciones que han hecho posibles sus equipos de producción de circuitos integrados más avanzados.
Una de sus aliadas más importantes es la empresa de origen estadounidense Cymer. Esta compañía fundada en 1986 está especializada en la fabricación de láseres y fuentes de luz de ultravioleta profundo (UVP) y extremo (UVE). Mantiene una relación muy estrecha con ASML desde hace muchos años; de hecho, es tan relevante el rol que tienen las fuentes de luz que fabrica Cymer en las máquinas de litografía que en 2013 ASML compró esta empresa de San Diego con el propósito de invertir en ella para acelerar el desarrollo de las tecnologías involucradas en la litografía UVE.
Sea como sea el transporte de la luz ultravioleta desde la fuente que la produce hasta la oblea solo es posible gracias a la intervención de los espejos que diseña y fabrica la otra gran aliada de ASML: la compañía alemana Zeiss. El rol de los elementos ópticos de Zeiss en estos equipos de litografía es crucial. Y lo es porque se responsabilizan, dejando a un lado los detalles más complejos, de trasladar la luz UVE con una longitud de onda de 13,5 nm desde la fuente que se encarga de su emisión hasta la máscara que contiene el patrón geométrico que es necesario plasmar en la oblea de silicio.
Imagen | ASML
Más información | Comisión Europea
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